第331章流片成功！

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    第331章流片成功！(第1/2页)
    ......
    第七天。
    凌晨两点零三分。
    帝都的夜很安静。
    中关村的路灯坏了两盏，没人修。
    地下室里，VAX-11的风扇嗡嗡地转。
    司徒渊敲下最后一个回车键。
    仿真程序运行了五十一分钟。
    屏幕上的代码，像瀑布一样狂泄。
    三个人谁都没坐。
    张秉谦站在屏幕左侧，老花镜推到了额头上，反而不戴了。
    林希站在右侧，双手插在裤兜里。
    司徒渊站在正中间，手搭在键盘边框上，指甲盖发白。
    瀑布停止。
    最后三行。
    全是悦目的纯绿色。
    `ISABUSTiming:PASSED`
    `AllTimingCOnStraintS:MET`
    `TOtalViOlatiOnS:0`
    张秉谦摘下额头上的老花镜。
    他没喊，没笑。
    他把眼镜折好，小心翼翼地放进胸口的口袋里。
    然后他蹲了下去。
    蹲在冰凉的瓷砖地面上，双手捂住了脸。
    肩膀在抖。
    没有声音。
    林希转过头，不去看他。
    司徒渊也转过头。
    去看那台冰箱大小的机器。
    米白色的外壳上，DEC的标志在地下室的日光灯管下反着光。
    他盯着那个标志看了几秒。
    然后伸出手，轻轻地拍了拍机箱外壳。
    “谢了。”他用英语说。
    声音很轻。
    直播间安静了整整八秒。
    然后弹幕像潮水一样涌上来。
    【零违规！！！全部通过！！！】
    【七天！三个人干了别人一个团队半年的活！】
    【张工那双膝盖上的白印到底磨掉了几层皮啊】
    【不说了，眼睛进沙子了】
    ......
    从中关村的地下室，到津门二厂的轰鸣。
    短短几天，犹如跨越了一个时代。
    七月一号。
    津门无线电二厂。
    硅基产线全速开动。
    这是GK-3光刻机浴火重生后的第一次实弹操演。
    陈默亲自操机，手指搭在对焦旋钮上，眼睛贴着目镜。
    光栅尺的数字跳动，伺服电机精准补偿每一个微米的误差。
    曝光。
    显影。
    硅片上的线条清晰锐利，边缘笔直。
    刻蚀环节，BOE槽液控温稳定在三十五度。
    第一批硅片过检，沟槽完美。
    陈默回头冲林希竖了个大拇指。
    直到离子注入。
    长安771所支援的国产离子注入机是十年前的老型号。
    苏佩兰和王铁山两个老师傅在机器旁边守了一天一夜，反复调整参数。
    打出来的硅片，送到显微镜下一看。
    掺杂深度分布不均匀。
    有的区域深了，有的区域浅了。
    像一块没发好的面，有些地方鼓着，有些地方瘪着。
    直接后果：芯片漏电。
    测试探针扎下去，电流一路跑偏，根本锁不住。
    苏佩兰试了七组参数，全部失败。
    “机器太老了。”
    她摘下防尘面罩，额头上全是汗。
    “束流不稳，真空也拉不到位。”
    车间里的气氛沉下去了。
    光刻过了，刻蚀过了，偏偏倒在了最基础的掺杂上。
    林希站在注入机旁边，手扶着冰凉的金属外壳。
    他闭上眼睛。
    脑海中，直播间的弹幕已经开始翻涌。
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    【离子注入！关键参数来了！！！】
    【我查了771所这批机器的资料——核心问题是束流电流太低导致注入时间过长，硅片在真空腔里受热不均匀！】
    【解法很简单但很反直觉——把束流电流提上去！10mA！加速电压拉到50keV！让注入时间缩短，减少热积累！】
    【最关键的一步：真空度！必须拉到10的负5次方帕斯卡！不然残余气体会和离子束发生散射，杂质分布肯定不均匀！】
    【对！这台老机器的分子泵其实能达到这个真空度，但出厂预设太保守了，得手动调旁通阀把抽速拉满！】
    林希睁开眼。
    “苏师傅。”
    苏佩兰回头。
    “束流电流调到10毫安。”
    “加速电压拉到50千电子伏特。”
    苏佩兰愣了一下。
    “电流10毫安？”
    “这台机器设计上限才8……”
    “旁通阀全开，把真空度拉到10的负5次方帕。”
    林希的声音很稳，
    “抽速够了以后，束流不会散。”
    苏佩兰看了看旁边的王铁山。
    王铁山沉默了几秒，走到机器后面。
    蹲下去看了看分子泵的参数铭牌。
    “能拉到。”
    他直起腰，
    “负5次方没问题，就是没人敢这么用。”
    “那就用。”林希说。
    王铁山没再犹豫。
    他抱着扳手绕到机器背面，拧开旁通阀。
    苏佩兰深吸一口气，坐回操作台。
    束流电流：10mA。
    加速电压：50keV。
    真空度读数开始往下掉。
    10的负3次方。
    负4次方。
    分子泵的声音变得尖锐。
    负5次方。
    稳住了。
    “注入。”林希说。
    苏佩兰按下启动键。
    机器轰鸣声骤然变调，像一头沉睡的野兽被唤醒。
    离子束击中硅片表面。
    六十秒。
    一百二十秒。
    注入结束。
    苏佩兰取出硅片，双手端着，走到显微镜前。
    车间里所有人的呼吸都停了。
    她把硅片放上载物台，调焦。
    看了三秒。
    又调了一下倍率。
    再看了五秒。
    她抬起头。
    嘴唇哆嗦了两下。
    “均匀的。”
    她的声音带着哭腔。
    “深度完全一致。”
    王铁山冲过去，把她从椅子上挤开，自己趴到目镜上看。
    看完，他直起腰，一屁股坐在了地上。
    “成了。”
    两个字。
    直播间弹幕彻底爆炸。
    【流片成功！！！华国硅基芯片流片成功了！！！】
    【1983年！自主光刻机+自主离子注入！流片流程打通！】
    【这帮老师傅是真的牛，参数给到位了，手上的活一点不含糊】
    【哭了哭了，跪在地上画版图，趴在机器前调参数，这就是华国芯片的第一步】
    林希站在车间中央。
    周围是沸腾的欢呼声。
    林希转头看向窗外。
    七月底的津门，太阳正落。
    晚霞把整个二厂的厂房染成暗红色。
    司徒渊不知道什么时候走到他旁边。
    两人并排站着，看着窗外。
    “林总。”司徒渊开口。
    “嗯。”
    “流片成功了，但这只是工程样片。”
    司徒渊推了推眼镜。
    “量产之前，还差最后一步，”
    “封装，测试。”

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